徕卡低真空镀膜仪Leica EM ACE200

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。

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JIANDANFANGBIAN。

徕卡低真空镀膜仪Leica EM ACE200的主要技术参数：

· 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

· 设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

· 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

· 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

· 触摸屏控制，简单方便

· 真空度7×10-3mbar

· 溅射电流：0-150mA可调

· 方形样品仓设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

· 工作距离调节范围：30mm-100mm

Leica EM ACE200为您带来的优势